汉铭表面处理-化学沉镍电镀厂-无锡化学沉镍

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    2020-8-20

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化学沉镍制程重点

a. 碱性脱脂:

为防止钯沉积时向横向扩散,初期使用柠檬酸系清洁剂。后因绿漆有疏水性,且碱性清洁剂效果又较佳,同时为防止酸性清洁剂可能造成铜面钝化,故采磷酸盐系直炼非离子性清洁剂,以容易清洗为诉求。

b. 微蚀:

其目在去除氧化获得新鲜铜面,同时达到粗度约0.5-1.0μm之铜面,使得镀镍金后仍能获得相当粗度,此结果有助打线时之拉力。配槽以sps 150g/l加少量---,以保持氯 离子约2ooppm 为原则,以提高蚀刻效率。







化学沉镍时出现毛刺、发花的现象是什么原因

汉铭化学沉镍厂家为大家讲解在化学沉镍时出现毛刺、发花的现象是什么原因:   

可以用湿纸擦拭化学沉镍断层,如断层表面用纸屑是毛刺,不要触摸纸屑是。固体杂质是产生化学沉镍毛刺的主要原因。   

(1)将化学沉镍的电镀件本身放入浴槽内的固体杂质,如铁屑;油漆先电镀后,漆膜腐蚀掉漆粒。   

(2)化学沉镍外部混合或阳极溶解带入的固体杂质。建议阳极采用阳极袋包装。   

化学沉镍出现发花   

化学沉镍发花主要是由有机杂质、浴液成分、增白剂和表面活性剂(如月桂基---钠)比例失衡引起的。

同时,在化学沉镍电镀液中也有杂质,无锡化学沉镍,或在化学沉镍过程中清洗不好也会引起发花。



pcb化学镍钯金(enepig)镀层能同时满足表面贴装,导电胶粘接,金丝/铝丝键合等工艺要求,在微组装工艺应用日趋广泛。研究了在微组装工艺中,化学镍钯金pcb在金丝键合和焊点---性方面出现的工艺问题,工件化学沉镍,分析了影响工艺---性的机理和原因,提出了该工艺---性控制的措施。

化学镍钯金工艺在国外已经成熟,应用广泛,化学沉镍电镀厂,近年来该工艺在国内应用逐渐推广。国内对该工艺的研究逐步开展,包括工艺过程分析、应用研究和控制等。由于该工艺控制复杂,化学沉镍工艺,如果镀层参数控制不当或组装工艺过程参数不稳定,就容易对产品和---性造成影响,主要表现在金丝键合性和bga器件的焊接---性问题。






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